高宝红

性别：女

职称：副研究员

职务或社会兼职：

邮箱：

所在部门：微电子所

主讲课程：

导师类型：硕士生导师

研究方向

化学机械超精密加工技术

纳米抛光后清洗技术及材料

教育背景及工作经历

2000年~2004年 烟台师范学院 物理专业，本科

2004年~2007年 天津理工大学 光学工程专业，硕士

2007年~2010年 微电子学与固体电子学专业，博士

2010年~今   任职于电子信息工程学院

学术论文

1. 铜CMP后清洗工艺中活性剂去除颗粒污染的研究进展 [J].半导体技术,2020

2. A study of FTIR and XPS analysis of alkaline‐based cleaning agent for removing Cu‐BTA residue on Cu wafer，Surf Interface Anal. 2019;51:566–575

3. Effects of Novel Inhibitor on Galvanic Corrosion of Copper and Cobalt and Particle Removal，ECS Journal of Solid State Science and Technology, 8 (10) P545-P552 (2019)

科研项目

1. 国家自然科学基金，项目名称：化学机械平坦化后清洗对超低k介质材料影响的理论研究（编号：61704046  ）

2. 国家重大专项，新型电—化学微电子清洗技术与清洗剂的研究（2009ZX02308-003）

3. 国家自然科学基金，项目名称：CMOS后形成栅极铝平坦化与电化学腐蚀抑制机理研究（编号：  61504037）

获奖情况

1. 极大规模集成电路平坦化工艺与材料，天津市技术发明奖三等奖