我校微电子所一行参加海峡两岸技术交流活动成果颇丰
时间：2014-09-18 来源：信息工程学院 作者： 访问量：
2014年9月1-2日，我校微电子技术与材料研究所所长刘玉岭教授率团赴台湾进行学术交流活动并参加了2014海峡两岸平坦化技术学术交流会议。会议由台湾平坦化应用技术协会(CMPUGTW) 主办、台湾勤益科技大学合办。该学术交流会议轮流在大陆和台湾举办，继2013年我校首次在大陆承办海峡两岸平坦化学术会议后，今年在台湾勤益科技大学举办。我校特聘教授、美国华裔张保国教授，高宝红博士，王辰伟博士以及博士生高娇娇等随团参加交流。
大陆参加此次学术交流活动单位有清华大学、复旦大学、大连理工大学、华侨大学、上海大学以及安集微电子公司，国瑞升磨料科技公司等企业；台湾方面有台湾清华大学，台湾科技大学，勤益科技大学，工业技术研究院以及永纯应用材料公司等多家相关企业，另外还有很多慕名前来的公司参会。
会议期间，刘玉岭教授作为第三场的主持人，介绍了的发展及取得的成绩，并发表了关于我校微电子所平坦化技术（CMP）的理论以及应用成果的演讲“GLSI多层铜布线CMP机理分析”。作为唯一一位会议主持人兼会议报告人，刘玉岭教授的CMP新理论体系获得了海峡两岸CMP领域学术及产业界人士的关注。另外，刘教授的博士生高娇娇同学代表大陆博士生做了最新科研进展的报告，报告了我校微电子所自行研发的世界首创的无需添加氧化剂碱性阻挡层抛光液，获得了一致关注及好评。
会议期间及会后刘玉岭教授以及张保国教授同台湾清华大学、台湾科技大学、台湾平坦化协会及勤益科技大学进行了深入座谈，确立了校间合作意向，包括教师交流、研究生交流以及项目合作等。台湾勤益科技大学赵校长刚从美国访问了十六所世界知名大学返台当天，即到会场，与刘玉岭教授进行了长时间的合作与办校理念的深入交流，并合影留念。
我校微电子所历来高度重视对外合作与交流。通过这次两岸交流，将促进本学科的发展，并进一步提升我校的影响力。
海峡两岸平坦化协会负责人合影
台湾平坦化协会秘书长康来成博士，刘玉岭教授，台湾平坦化协会理事长陈炤彰教授，清华大学路新春教授，复旦大学屈新萍教授（从左到右）
台湾勤益科技大学赵敏勳校长同刘玉岭教授亲切合影